新華社東京6月15日電（記者錢錚）日本物質(zhì)材料研究機(jī)構(gòu)14日發(fā)布新聞公報說，該機(jī)構(gòu)研究團(tuán)隊研發(fā)出一種可反復(fù)黏合和剝離的黏合劑，用完之后還能將基材和黏合劑還原到原始狀態(tài)后分別回收。這種可再生黏合劑可望廣泛應(yīng)用于電子設(shè)備、醫(yī)療儀器等的生產(chǎn)和修理。

　　公報說，研究人員注意到咖啡酸在波長不同的紫外線照射下能發(fā)生可逆的交聯(lián)反應(yīng)和脫交聯(lián)反應(yīng)，利用這一特點(diǎn)，他們研發(fā)出一種含咖啡酸的高分子材料。將這種材料涂布到基板上后，用波長365納米的紫外線照射，材料就會發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)，生成不溶于溶劑的預(yù)涂黏合層。

　　這種預(yù)涂黏合層在常溫下沒有黏性，可以在陰暗的室溫環(huán)境下保存兩年而性能不會下降。使用時只要令其接近熱源，就能反復(fù)黏合和剝離。實驗顯示，黏合和剝離反復(fù)30次以上后，材料黏合強(qiáng)度仍與初次使用時一樣。使用完畢后，用波長254納米的紫外線照射，材料就會發(fā)生脫交聯(lián)反應(yīng)，恢復(fù)到和涂布前相同的狀態(tài)，黏合劑和基板能分別回收再利用。

　　本項研究成果已發(fā)表于新一期美國《先進(jìn)功能材料》雜志上。